单选 集成电路制造工艺员2026-06-29 更新 2 阅读

在热扩散工艺中的预淀积步骤中，砷和锑的扩散温度为（）。

  1. 1050～1200℃ 正确答案
  2. 900～1050℃
  3. 1100～1250℃
  4. 1200～1350℃
参考答案：A

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